即便是超过，也马上就要过时，只能用来生产低级芯片。
东华在上个世纪九十年代，就开始进行euv相关方面的研究。
2002年，研制出国内第一套euv极紫外光刻原理装置。
2008年，在中科院的主导下，已经多家高校和科研机构参与到研究中，
2017年，（本章未完，请翻页）