第619章 下一代光源的抉择(4 / 4)

小说:1991从芯开始 作者:三分糊涂

当然,对于如何跨越193nm,除了euv之外,也有其他的方案。譬如尼康和svg就在准备攻克157nm的hef2激光,以及电子束投射(epl),离子投射(ipl)、甚至x光等等……

总之,就是解决的办法一箩筐,放眼望去全是路。

但具体哪一条是真正的正道,谁也不知道。

嗯,只有苏远山一个人知道。

因为这些方案,都败给了眼前这个乐呵呵的老爷子。

“林叔,赵叔,193nm之后你们的想法是什么?”坐到沙发上,苏远山端起茶杯抿了一口。

赵凯东和林本坚对视了一眼,随后笑着道:“193nm看样子都要停留很久,你这么着急?”

“我本来是不着急的。”苏远山很坦白:“主要是老美那边搞euv,搞得我有点心慌。”

赵凯东便笑着摇了摇头:“虽然说光源要比光刻机领先很多,但193nm的光源现在都尚未用在光刻机上,你心慌也没用。”

“至于说下一代光源,其实我和老林并不十分看好157nm,因为hef2激光可以说要完全推翻现有的光路系统,非但物镜要重新搞,光刻胶也要重新研制……最主要的是,波长步进提升不大,且投入产出比太高了。”

“euv,听起来很不错,有点下一代光源的意思。但你看euv联盟那架势……就不是我们这个小作坊能够完成的。”

苏远山便笑道:“有您二位在,咱们这实验室可不是小作坊。”

“呵呵,不管是不是,但设计师不是有句话吗?摸着石头过河……既然前面有人趟路了,那我们也干脆摸着石头过河就行了。”赵凯东笑道:“intel不是拉了那么多企业吗?你也可以拉一个嘛。”

苏远山:“……”

他算是听明白了,赵凯东的意思是,让他也搞个euv联盟。

苏远山倒是想搞,可现在要是搞的话,那就不是远芯主导,而是所有人给霓国人打工。

于是他便望向林本坚。

“林叔?你有什么妙招没有?”

(注:虽然有点枯燥,但……总归还是得写。。。)

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